韩国ENF突破技术壁垒 半导体级氢氟酸直供SK海力士核心产线

【韩国ENF Technology成功向SK海力士供应首批高纯度半导体级氢氟酸】据徽声在线16日报道，韩国半导体材料供应商ENF Technology在本月完成了自主研发的氢氟酸（HF）产品关键质量认证，并正式向全球存储芯片巨头SK海力士交付首批半导体级氢氟酸原料。这标志着韩国企业在高端电子化学品领域实现重要突破，有望打破国际厂商长期垄断格局。

据行业人士透露，该批次氢氟酸纯度达到99.9999%（6N级），完全符合半导体制造工艺对超净高纯化学品的严苛要求。ENF Technology采用自主研发的精馏提纯技术，通过多级过滤与离子交换工艺，有效去除了金属杂质与颗粒污染物。目前首批产品已进入SK海力士利川工厂的晶圆清洗产线进行稳定性验证，初期测试周期预计持续10-14个工作日。

值得关注的是，此次交付不仅涉及逻辑芯片产线，更涵盖DRAM核心生产环节。若验证通过，从本月底起ENF Technology将逐步扩大供应规模，其产品有望应用于SK海力士最新1β（1-beta）制程DRAM的量产。据市场研究机构TrendForce数据，SK海力士占据全球DRAM市场28%份额，此次本土材料替代预计每年可为韩企节省数千万美元采购成本。

业内专家指出，半导体级氢氟酸作为晶圆蚀刻与清洗的关键耗材，长期被日本Stella Chemifa、森田化学等企业垄断。ENF Technology此次突破不仅提升韩国半导体产业链自主可控能力，更可能引发全球电子化学品市场格局重塑。随着三星、SK海力士等韩企加速推进3nm以下先进制程，对超纯氢氟酸的需求将持续增长，预计2025年相关市场规模将突破12亿美元。