上海AI实验室联合团队突破芯片光刻胶稳定制备技术瓶颈
2026-05-12 11:14:08未知 作者:徽声在线
据徽声在线5月12日报道,在芯片制造领域,光刻胶堪称核心材料中的关键一环,其质量优劣对芯片的性能表现以及成品率有着直接且重大的影响。长期以来,高端光刻胶树脂的稳定制备一直是行业内的难题,高度依赖极少数国外供应商的“黑箱能力”,这在一定程度上限制了我国芯片产业的发展步伐。
近日,在国家2030新一代人工智能国家科技重大专项的总体战略部署下,上海人工智能实验室(上海AI实验室)携手厦门大学、苏州国家实验室等合作单位,展开了深入的技术攻关。他们依托“书生”科学大模型与“书生”科学发现平台,创新性地构建了“AI决策 + 自动化合成”的闭环研发体系。通过这一体系,成功实现了高纯度、高一致性、高效率的KrF光刻胶树脂创制。
这一具有里程碑意义的突破,意义非凡。它使得高端光刻胶树脂的稳定制备不再受制于国外少数供应商,为全球芯片材料领域开辟了一条可标准化、能够快速迭代的新路径。目前,基于该平台已经成功支撑了多批次的自动化合成与性能验证工作,不同批次之间的一致性得到了显著提升。
值得一提的是,厦门恒坤新材料科技股份有限公司凭借自身在光刻胶配方开发方面积累的丰富经验,完成了树脂适配工作。经过严格检测,产业关键指标均达到了预期标准,后续将进入客户端验证阶段,有望进一步推动我国芯片材料产业的发展。
